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    RF射頻低溫等離子處理設備RFD-200

    • 總供應量500
    基本信息:
    • AC220(伏)功率
      800(瓦)
      否建議零售價
      ¥0.00
    • PLAUX-RFD-200原理
      等離子體
      工業用品牌
      PLAUX
    詳細信息:

    RFD-200 設備配置技術參數

    機臺名稱:RF射頻低溫等離子設備

    機臺型號:RFD-200

    電源:AC220V(±10%)

    功率:800VA

    處理深度:100mm

    主機尺寸:250(W)×200(H)×360(D)mm

    主機重量:8kg

    變壓器尺寸:250(W)×400(H) ×300(D)mm

    變壓器箱重量:22kg

    主機和變壓器之間的連線:

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